Tier 2
Materialien, Chemie und Gase
Die Verbrauchsstoffe, die in jeder Fab fließen: Silizium-Wafer als Substrat, Photoresist und Prozesschemie, CMP-Slurry, Mikrokontaminationsfilter und Spezialgase. Anders als Equipment skaliert dieser Tier mit den laufenden Wafer-Starts — also mit der Produktionsmenge, nicht nur dem Fab-Ausbau.
Silizium-Wafer — Marktanteile
Der 300-mm-Wafermarkt ist ein Oligopol: die Top 5 kontrollieren rund 89% des Umsatzes (Schätzung, Stand 2024/2025).
Datenquelle: wafer-marktanteile.csv. Branchen-Schätzungen (Sekundärquellen), 300-mm-Umsatzbasis. Siltronic und SK Siltron sind hier nur zum Vergleich gemappt (kein eigener Steckbrief).
| Firma | Profil | Position | Umsatz | Steckbrief |
|---|---|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical | Chemiekonzern, Wafer + Photoresist | Wafer-Nr. 1 | ca. 2,5 Bio. JPY (Konzern, GJ2025) | Shin-Etsu |
| SUMCO | reiner Wafer-Hersteller | Wafer-Nr. 2 | 396,62 Mrd. JPY (2024) | SUMCO |
| GlobalWafers | reiner Wafer-Hersteller (Taiwan) | Wafer-Nr. 3 | ca. 1,94 Mrd. USD (2024) | GlobalWafers |
Quellen: Shin-Etsu Annual Report; SUMCO Geschäftsbericht; GlobalWafers 2024 Results; Branchenanalysen (Anteile).
Photoresist und Prozesschemie
Lichtempfindlicher Lack für die Belichtung sowie Ätz- und Reinigungschemie. Der EUV-Photoresist ist stark auf wenige japanische Anbieter konzentriert — ein eigener, weniger sichtbarer Engpass.
| Material | Hauptlieferanten | Hinweis |
|---|---|---|
| EUV-/ArF-Photoresist | JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu, Sumitomo Chemical, Fujifilm, DuPont | EUV-Resist stark japanisch konzentriert |
| Ätz- und Reinigungschemie | BASF, Merck, Resonac, Stella Chemifa (HF) | teils geografisch konzentriert |
Quelle: materialien-gase.csv; Branchenanalysen. Marktanteile je Resist-Anbieter: k. A. (Recherche ausstehend).
Maskenrohlinge (Photomask Blanks)
Das beschichtete Quarzsubstrat, aus dem beim Maskenhersteller die Belichtungsmaske strukturiert wird. Bei EUV ein mehrlagig beschichtetes, nahezu defektfreies Substrat mit jahrzehntelangem Prozess-Know-how — kommerziell liefern weltweit praktisch nur zwei Häuser. Ein Quasi-Duopol direkt vor dem EUV-Scanner.
| Firma | Position (Maskenrohlinge) | Engpass | Steckbrief |
|---|---|---|---|
| Hoya | Marktführer EUV-Maskenrohlinge; auch HDD-Glassubstrate | hoch | Hoya |
| AGC | zweiter EUV-Maskenrohling-Anbieter (Duopol mit Hoya) | hoch | kein Dossier |
| Shin-Etsu | im Maskenrohling-/Resist-Umfeld, in EUV begrenzt | mittel | Shin-Etsu |
Marktanteile = Branchen-Schätzungen (Sekundärquellen): Hoya+AGC ca. 90%+ der EUV-Maskenrohlinge; Hoya-Anteil je nach Quelle ~45% bis >75%. Exakter Anteil mit belegtem Stand: k. A. (Recherche ausstehend). Details im Hoya-Steckbrief.
CMP und Filtration
Chemisch-mechanisches Polieren (Slurry und Pads) ebnet die Wafer-Oberfläche; Mikrokontaminationsfilter halten Chemikalien und Gase rein. Entegris ist hier der investierbare Pure-Play.
| Firma | Rolle | Position | Umsatz | Steckbrief |
|---|---|---|---|---|
| Entegris | CMP-Slurry/Pads, Filtration, Materialien, Gase | führend bei CMP-Slurry/Pads und Liquid-Filtration | ca. 3,2 Mrd. USD (2024) | Entegris |
| DuPont, Fujimi, Versum/Merck | weitere Slurry-/Chemie-Anbieter | Wettbewerb in Teilsegmenten | k. A. | nur gemappt |
Quellen: Entegris FY2024 Ergebnisse (8-K); Branchenanalysen. Entegris skaliert mit Wafer-Starts (Verbrauchsmaterial).
Industriegase
Bulk- und Spezialgase versorgen die Fab kontinuierlich. Die drei großen Konzerne sind breit diversifiziert — Halbleiter/Elektronik ist nur ein Endmarkt, das Memory-Exposure entsprechend niedrig.
| Firma | Position (Industriegase) | Umsatz | Memory-Exposure | Steckbrief |
|---|---|---|---|---|
| Linde | Nr. 1, ca. 27–30% | ca. 33,0 Mrd. USD (2024) | niedrig | Linde |
| Air Liquide | ca. 22–24% | über 27 Mrd. EUR (2024) | niedrig | Air Liquide |
| Air Products | ca. 12–15% | 12,1 Mrd. USD (GJ2024) | niedrig | Air Products |
Quellen: Geschäftsberichte der drei Konzerne; Branchenanalysen (Marktanteile Industriegase).